預處理質(zhì)量的好壞是關系反滲透設備能夠穩(wěn)定運行的關鍵。當反滲透設備進水采用地下水時，采用石英砂和活性炭的預處理是沒有問題的，在使用地表水時就不同了。

        1、反滲透設備預處理藥劑

            與處理中使用的藥劑，包括混凝劑、助凝劑、氧化劑、還原劑、阻垢劑等，尤其是混凝劑和阻垢劑，這些藥劑的選擇、加藥量甚至藥品配方法都會對反滲透的運行有很大的影響。

            通常，我們會注意檢測進水的鐵含量，其實進水中的鋁含量高也會造成反滲透膜的污染。鋁對膜的污染是由于氫氧化鋁沉淀而導致的，氫氧化鋁沉淀物通常以膠體形式存在，是一種兩性氫氧化物，在6.5-6.7的pH范圍內(nèi)具有很小的溶解度，如果鋁凝聚過程在太高或太低的pH值下進行，鋁離子將進入反滲透裝置中造成反滲透膜的污染，因此對于采用鋁鹽為凝聚劑的預處理系統(tǒng)，其pH值最好控制在6.5-6.7，使鋁的溶解度達到最小，注意根據(jù)水質(zhì)及時調(diào)整加藥量，可能的話要定期檢測經(jīng)預處理過的水中的鋁含量，并控制在0.05mg/L以下。

            為了防止?jié)馑畟?cè)的結(jié)垢，我們通常會加入阻垢劑，目前的阻垢劑對一些有機酸、有機磷酸鹽類物質(zhì)復配而成，達到阻垢、分散的目的。如果選擇或控制不當，這些有機物會污堵反滲透膜元件，同時它也會成為滋生細菌微生物的溫床，并對反滲透的運行帶來更大的危害。

        2、溫度

            可能大家都知道溫度對反滲透膜元件的通量有很大的影響，因此在計算產(chǎn)水量的時候?qū)囟冗M行校核才能相互比較。所以在冬季水溫低的地方反滲透的預處理系統(tǒng)中會設計加熱設備，這樣可以有效保證冬季反滲透設備也能達到設計出力。

            其實膜元件中SiO?沉淀，也同反滲透裝置的進水溫度有密切的關系，濃水中的二氧化硅濃度，25℃時不能超過100mg/l，5℃時不能超過25mg/l。因此，當預處理系統(tǒng)中無加熱設備時，在冬季要十分注意二氧化硅沉淀物對膜元件的污染問題，嚴格控制濃水中的二氧化硅的含量，其值不能超過在該溫度下的溶解度。

        反滲透設備運行人員的培訓

            運行人員的既能水平的高低、取決于運行人員能否及時發(fā)現(xiàn)并正確處理系統(tǒng)的缺陷和隱患是影響反滲透設備運行的重要因素。運行人員的誤操作對系統(tǒng)的危害更大，而且對這種膜元件的損壞常常是無法恢復的。反滲透設備重啟前和運行后的沖洗工作一定要做好，防止設備中有殘余氣體在高壓下運行，形成氣錘會損壞膜，以及膜濃水側(cè)的無機鹽的濃度高于原水，易結(jié)垢而污染膜。

        反滲透設備的運行管理

            1、反滲透設備定期檢查

                定期檢查、及時更換保安過濾器濾芯，防止濾芯因安裝或質(zhì)量問題發(fā)生泄漏所引起的反滲透膜的顆粒污染。當保安過濾器進口壓差大于0.15MPa時，應更換濾芯。一般應每月檢查一次，濾芯使用時間不宜超過6個月，運行時還應經(jīng)常檢查保安過濾器內(nèi)是夠有氣體，不能讓空氣帶入。

            2、反滲透膜元件的檢查

                （1） 一般每隔半年（必要時可縮短時間），要對每套反滲透的一段、二段膜元件進行檢查。

                （2）代開壓力容器端蓋（使用專用工具，并由技術(shù)熟練的技工操作）。

                （3）檢查進水段有無機械雜質(zhì)、金屬氧化物沉積，有無細菌微生物滋生，膜元件顏色有無變化，檢查膜有無結(jié)垢。

                （4）如果需要還可以抽出反滲透膜元件進行細致檢查，再抽進水端膜元件時，一定不能直接抽，要把按水流方向它從壓力容器推出，安裝時同樣。

                （5）每次檢查完要做詳細記錄，以便進行對比。

            3、各表計定期校驗，保證儀表準確可靠。

            4、定期對反滲透設備運行數(shù)據(jù)分析統(tǒng)計。

        操作壓力、回收率（或濃水排放量）、進水的SDI（污染指數(shù)）、pH、余氯和溫度是反滲透裝置的主要運行控制參數(shù)；脫鹽率、產(chǎn)水量和壓差是三個主要監(jiān)視性能參數(shù)。在運行管理中必須嚴格遵守，決不能隨意改變操作條件。特別是要防止提高回收率來增加產(chǎn)水量，導致反滲透膜面產(chǎn)生結(jié)垢；要防止在SDI值超標的情況下繼續(xù)運行，導致反滲透膜的堵塞；要防止在允許最大壓差以上繼續(xù)工作而造成膜元件的破壞性損壞。